德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司

薄膜沉積 刻蝕 薄膜制程 表面處理 清洗

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公司介紹

First-Nano System GmbH
2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(Dresden University of Technology)


2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司  


2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國代表處,負責中國區(qū)業(yè)務(wù)

德國韋氏納米系統(tǒng)成立以來,一直為客戶想的更多,Thinking more ?。?!

產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

 
公司檔案
公司名稱: 德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司 公司類型: 企業(yè)單位 ()
所 在 地: 中國/香港 公司規(guī)模:
注冊資本: 未填寫 注冊年份: 2000
資料認證:
經(jīng)營范圍: 薄膜沉積 刻蝕 薄膜制程 表面處理 清洗
主營行業(yè):
半導體清洗設(shè)備 半導體清洗設(shè)備耗材 半導體加工設(shè)備
半導體加工設(shè)備耗材 半導體測試設(shè)備 半導體測試設(shè)備耗材