中國電子科技集團公司第二研究所

五十多年軍工電子制造技術研究和電子專用設備研發(fā)的基礎和經(jīng)驗，提供了高品質(zhì)產(chǎn)品的保證。我所具備完善的管理體系，已通過ISO9001質(zhì)量體系認證及GJB9001A-2001質(zhì)量管理體系，實行“6S”管理。我所為國家二級保密單位和具備武器裝備承研資質(zhì)的單位，為全國表面處理協(xié)會、熱處理協(xié)會、半導體制造協(xié)會、平顯器件制造協(xié)會等會員單位。

        二所承擔著國家和部省級技術先進、產(chǎn)業(yè)化和重大推廣項目，如02專項引線框架高速連續(xù)鍍金線；晶圓凸點及TSV電鍍設備產(chǎn)業(yè)化應用；真空磁控濺射鍍膜設備獲得“軍事電子預研項目”；多晶硅鑄錠爐項目獲得科技部“國家863計劃”以及信息產(chǎn)業(yè)部“電子發(fā)展基金”項目；是國家顯示屏及觸屏工藝設備“國家產(chǎn)業(yè)化工程基地”，是聯(lián)合國授權(quán)的“非ODS清洗工藝及設備技術”依托單位，并多次承擔國家火炬計劃及科技部創(chuàng)新基金項目；起草等離子清洗在軍用連接器中的精密清洗工藝研究等行業(yè)標準。  

      在引進國外先進工藝技術基礎上積極消化吸收、結(jié)合國家先進工藝技術，自主創(chuàng)新，形成自主知識產(chǎn)權(quán)體系，已擁有多項專利。研制生產(chǎn)的濕法精密電鍍/清洗/刻蝕設備、干法等離子清洗/去膠設備、潔凈氮氣儲存產(chǎn)品，在顯影/刻蝕/清洗工藝技術領域居國內(nèi)領先水平，在半導體IC/Wafer/晶圓制造的硅刻蝕、二氧化硅刻蝕、氮化硅刻蝕、金屬層刻蝕等工藝端已形成完整的技術體系和豐富的設備系列，廣泛應用于半導體集成電路制造、IC芯片制造、先進封裝、功率器件、分立器件、光通信、大功率芯片制造、納米制造MEMS、LED、OLED、3D-IC 、TSV、PV等產(chǎn)品領域。

       通過貫徹“精品戰(zhàn)略”，精益生產(chǎn)，提高產(chǎn)品質(zhì)量，立體多元開拓市場，打造全方位的工藝和裝備系統(tǒng)集成服務，二所已經(jīng)成為許多世界知名企業(yè)和國內(nèi)一流企業(yè)的電子工藝和裝備供應商。產(chǎn)品廣泛用于航天、航空、兵器、船舶、電子元器件和整機制造等企業(yè)。產(chǎn)品遍及全國各地，先后出口日本、美國、馬來西亞和中國香港、臺灣地區(qū)。

        我們將秉承ISO9000質(zhì)量體系的精神，為我們的客戶提供更有價值的服務。熱誠歡迎各界人士前來我所參觀指導。相關詳細信息請登陸www.ersuo.com網(wǎng)站。