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化學符號:Al
規(guī) 格:Φ50.8*5、Φ76.2*5其他規(guī)格可根據(jù)客戶需求定做!
純 度:3N,4N,5N,6N
外 觀:銀白色
原 子 量:26.98154
蒸發(fā)溫度:1220℃
密 度:2.7g/cm3
熔 點:660℃
沸 點:2467℃
汽化溫度:1082℃
電 阻 率/μΩ?cm:2.66
電阻溫度系數(shù)/℃-1:4.20×10-3
蒸發(fā)方式:鎢絲或鉬舟
蒸發(fā)源材料(絲、片):W
坩 堝:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能:鋁膜從紫外區(qū)到紅外區(qū)具有平坦而且很高的反射率,鋁膜對基地的附著力比較強,由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護,所以鋁膜的機械強度和化學穩(wěn)定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色,但有時也呈黑色?;貫檠趸璞∧ぃ?00nm厚),蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好;加工性能好,可加工成任意形狀;
波長/nm 折射率n 消光系數(shù)k 反射率/%
220 0.14 2.35 91.8
250 0.19 2.85 92.0
300 0.25 3.33 92.1
340 0.31 3.8 92.3
380 0.37 4.25 92.6
436 0.47 4.84 92.7
492 0.64 5.50 92.2
546 0.82 5.44 90.0
650 1.30 7.11 90.7
700 1.55 7.00 88.8
800 1.99 7.05 86.4
950 1.75 8.50 91.2
2000 2.30 16.5 96.8
4000 5.97 30.3 97.5
6000 11.0 42.2 97.7
8000 17.0 55.0 98.0
10000 25.4 67.3 98.1
應 用:保護膜,反射膜,增透膜
用 途:超純鋁用于制造光電子存儲媒體;作為集成電路的配線;
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