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陶瓷靶材 濺射靶材 廠家直銷

產(chǎn)品品牌

領(lǐng)勢(shì)

庫       存:

100

產(chǎn)       地:

中國-河南省

數(shù)       量:

減少 增加
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品牌:領(lǐng)勢(shì)

型號(hào):

所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-鍍膜設(shè)備耗材-鍍?cè)?、靶?/a>

陶瓷靶材 濺射靶材 廠家直銷

濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面。

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

根據(jù)形狀可分為長靶,方靶,圓靶,異型靶

根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

材料及符號(hào)

純度

規(guī)格

二氧化鋯靶(ZrO2)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化鋅靶(ZnO)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

五氧化二釩靶(V2O5)

3N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化鎢靶(WO3)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

二氧化鈦靶(TiO2)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

一氧化鈦靶(TiO)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

一氧化硅靶材(SiO)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化釹靶(Nd2O3)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

三氧化二鉬靶(Mo2O3)

3N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化鉬靶(MoO)

3N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化鎂靶(MgO)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

三氧化二銦靶材(In2O3)

4N,5N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化銅靶材(CuO)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

三氧化二鉻靶材(Cr2O3)

3N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

三氧化二鉍靶(Bi2O3)

3N,4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

三氧化二鋁靶(Al2O3)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

氧化鋅鋁靶(AZO)

3N5,4N

平面靶,旋轉(zhuǎn)靶

氧化銦錫靶(ITO)

4N

平面靶,圓柱靶,臺(tái)階靶,管狀靶

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