合金靶材 濺射靶材
濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面。
濺射靶材主要應用于電子及信息產業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
根據形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶
根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
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材料及符號
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純度
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規(guī)格
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鋅鋁合金靶(ZnAl)
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99.99%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鋯鈦合金靶(ZrTi)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鋯鈮合金靶(ZrNb)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎢鈦合金靶(Wti)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎢錸合金靶(WRe)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鈦鎳合金靶(TiNi)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鈦鋁合金靶(TiAl)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎳釩合金靶(NiV)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鉬硅合金靶(MoSi)
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99.5%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銦錫合金靶(InSn)
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99.99%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銥錸合金靶(IrRe)
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99.9%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銥錳合金靶(IrMn)
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99.5%
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銅硒合金靶(CuSe)
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3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銅鎵合金靶(CuGa)
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3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銅銦合金靶(CuIn)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鉻硅合金靶材(CrSi)
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3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鋁硅銅合金靶材(AlSiCu)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鋁硅合金靶(AlSi)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鋁鉻合金靶(AlCr)
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3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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銅鋁合金靶(CuAl)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎳鉻鋁合金靶(NiCrAl)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎳鉻硅合金靶(NiCrSi)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鎳鉻合金靶(NiCr)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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鈦鋁合金靶(TiAl)
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2N5,3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
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