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    包郵 關(guān)注:463

    非光刻涂層

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-涂膠耗材-光刻膠

    產(chǎn)品品牌

    Futurrex

    規(guī)格型號:

    250ml

    庫       存:

    2

    產(chǎn)       地:

    美國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:Futurrex

    型號:250ml

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-涂膠耗材-光刻膠

            1、特別涂層PC3

    應(yīng)用:平坦化層 – 轉(zhuǎn)移平坦層到下面的介電質(zhì)的刻蝕后加工過程;機(jī)械保護(hù)層 – 劃片和切割操作中;臨時(shí)粘合層。

    性質(zhì)是優(yōu)異的平坦化性能,厚度范圍是在0.5  20.0 um,對生產(chǎn)的作用是在一些應(yīng)用中省去化學(xué)機(jī)械拋光平坦化處理、刻蝕后加工處理時(shí)抑制微負(fù)載的影響、劃片時(shí)消除膜剝落和破裂的情況、在背部減薄和晶片分離后很容易在光膠去除劑RD3RD6中去除。

    2、旋涂玻璃:SOG

    應(yīng)用:在多層金屬加工中作為介電質(zhì)一部分的平滑層和保護(hù)層,在三層光膠加工中的中間層。

    性質(zhì):固化之后設(shè)備可應(yīng)用的膜硬度、厚度范圍是在0.15  0.55 um、對生產(chǎn)的作用是在一些應(yīng)用中省去化學(xué)氣相沉積(CVD)二氧化硅、在多層金屬加工處理中省去費(fèi)時(shí)的填充狹窄溝槽的SiO2沉積和凹蝕、在為薄膜磁性頭制作的基板制備中省去拋光

     

    旋涂玻璃

    ICI-200

    0.17μm  0.20μm

    DC4-500

    0.45μm  0.55μm

    3、旋涂摻雜涂層

    應(yīng)用:在旋涂硼、旋涂磷、旋涂鋅;其性質(zhì)是透明薄膜通過O2 Plasma轉(zhuǎn)化為固態(tài)摻雜。其對生產(chǎn)作用是省去摻雜的旋涂玻璃、在一些應(yīng)用中省去離子植入、省去ampoule中鋅摻雜。

    旋涂摻雜涂層

    涂層

    類型

    BDC1-2000

    硼摻雜涂層

    PDC1-2000

    磷摻雜涂層

    ZPDC2-2000

    鋅摻雜涂層

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