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Transene公司薄膜蝕刻液廣泛應(yīng)用于微電子電路光刻制作過(guò)程中獲得選擇性的金、鎳、鉻及鎳鉻等薄膜的蝕刻,可結(jié)合光刻膠技術(shù)用于在鋁板表面薄膜上制備精準(zhǔn)的電極和電阻圖案。薄膜蝕刻液為安全、無(wú)毒的溶液,室溫下即可使用。這些蝕刻液可與負(fù)性及正性光刻膠相適應(yīng),從而得到及其精細(xì)的線條形狀。
品名 | 金蝕刻液 | 銀蝕刻液 | 鎢化鈦蝕刻液 | 銅蝕刻液 | 磷化鎵蝕刻液 | 鎳蝕刻液 |
型號(hào) | TFAC/TFAC/GE-8148 /GE-8110/GE-8111 |
TFS | TiW-30 | Copper Etch-49-1 | GaP | TFB/TFG/TYPE-I |
品名 | 鉭蝕刻液 | 鈀蝕刻液 | 緩沖氧化物蝕刻液 | 硅蝕刻液 | 聚酰亞胺蝕刻液 | 鋁蝕刻液 |
型號(hào) | SIE-8607/TYPE-111 | TFP/EC | BOE (6:1) | PSE-200 | Sodium Hydroxide | Type-A/ TYPE-D/ TYPE-F |
品名 | 鉻蝕刻液 | 鎳鉻蝕刻液 | 鎢蝕刻液 | 鈦蝕刻液 | 鈦鎢蝕刻液 | 硅蝕刻液 |
型號(hào) | 1020/1020AC/CRE-473 /CE-5M/TFE/CE-8002-A /CE-8001-N |
TFN | TFW | TFT/TFTN | TiW-30 | PSE-200/PSE-300 |
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