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當(dāng)前位置: 首頁(yè) » 耗材館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材 » 減薄拋光耗材 »供應(yīng)GRISH CMP拋光液 研磨液
    包郵 關(guān)注:326

    供應(yīng)GRISH CMP拋光液 研磨液

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-減薄拋光耗材

    產(chǎn)品品牌

    GRISH

    庫(kù)       存:

    1000000

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    客服電話:4001027270

    品牌:GRISH

    型號(hào):

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-減薄拋光耗材

     GRISH CMP拋光液均是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品,廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工??缮a(chǎn)不同粒度(10~150 nm)的產(chǎn)品滿足用戶需求。根據(jù)pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。
    CMP拋光液
    產(chǎn)品的特點(diǎn):
        1. 高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的(可以生產(chǎn)150 nm)
        2. 粒度可控,根據(jù)不同需要,可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品(10-150 nm)
        3. 高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污
        4. 高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷,達(dá)到高平坦化加工
     拋光液基本性質(zhì)

    堿性型號(hào)(pH:9.8±0.5)

    SOQ-2A

    SOQ-4A

    SOQ-6A

    SOQ-8A

    SOQ-10A

    SOQ-12D

    酸性型號(hào)(pH:2.8±0.5)

    ASOQ-2A

    ASOQ-4A

    ASOQ-6A

    ASOQ-8A

    ASOQ-10A

    ASOQ-12D

    粒徑(nm)

    10~30

    30~50

    50~70

    70~90

    90~110

    110~130

    外觀

    乳白色或半透明液體

    比重

    1.15±0.05

    組成

    成份

    含量(w%)

    SiO2

    15~30

    Na2O

    ≤0.3

    重金屬雜質(zhì)

    ≤50 ppb

     
    拋光液組成
    成份 含量(w%)
    SiO2 15~30
    Na2O ≤0.3
    重金屬雜質(zhì) ≤50 ppb
     

    應(yīng)用范圍:
    1、硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學(xué)晶體拋光;藍(lán)寶石襯底拋光;LED襯底拋光;
    2、硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液;

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          公司名稱:北京國(guó)瑞升科技股份有限公司

    地址:北京市海淀區(qū)上地信息路12號(hào)中關(guān)村發(fā)展大廈C-402 100085

    聯(lián)系人:吳女士(市場(chǎng))

    Tel: 010-51653168

    Mobile:15910052553

    Fax:010-82890973

    公司網(wǎng)站:http://www.bjgrish.com

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    提問:
     

    您這個(gè)硅粉的顆粒大小多大,能拋200微的器件嗎??

    sh66a  2017-07-05

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