服務(wù)熱線
4001027270
適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)
優(yōu)點(diǎn)
NID™干燥系統(tǒng)利用IPA和N2霧化分配,以及晶圓與水脫離時(shí)形成了表面張力干燥的技術(shù)
適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)
> 可單臺設(shè)備或整合在濕法設(shè)備中
> 最佳的占地
> 成熟的工藝
> 無水跡
> 無碎片
特征和優(yōu)點(diǎn)
應(yīng)用
拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片
一般特征
> 可同時(shí)干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓
> 適用于標(biāo)準(zhǔn)高邊或低邊花籃
規(guī)格
工藝時(shí)間: 一般< 10 分鐘,受所選工藝菜單而變化
親水性晶圓片: ≤ 10 增加 @ 0.12 μm
疏水性晶圓片: ≤ 30 增加 @ 0.12 μm
金屬含量: 任何金屬≤ 1•1010 atoms / cm2 增加
干燥斑點(diǎn): 干燥后無斑點(diǎn)
IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run
去邊緣: 3 mm
圖形化的用戶界面
> 基于B&R plc
> 可編輯菜單
> 自動記錄(EOR, ERR etc.)
> 多等級密碼
可選項(xiàng)
> 層流
> IPA 濃度監(jiān)測系統(tǒng)
> 熱N2
> UPS 組件
可靠性
> 平均故障間隔時(shí)間 ≥ 800 h
> 輔助平均間隔時(shí)間 ≥ 300 h
> 可運(yùn)行時(shí)間 ≥ 97 %
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