服務(wù)熱線
4001027270
光刻(photoetching or lithography)是通過一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后,晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。通過光刻工藝過程,最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。
公司提供電子束光刻、激光直寫、步進(jìn)式光刻、接觸式光刻、硬掩膜光刻等光刻技術(shù),線寬最小可達(dá)10nm,多種光刻結(jié)合的先進(jìn)光刻理念,實(shí)現(xiàn)了不同尺寸的光刻需求。
服務(wù)流程:
客戶提出功能要求;
設(shè)計(jì)工程師進(jìn)行結(jié)構(gòu)、尺寸和工藝設(shè)計(jì);
確認(rèn)設(shè)計(jì)方案、制備周期和價(jià)格;
開始制備;
交付產(chǎn)品。
商家資料
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