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光刻技術(shù)代工服務(wù)

發(fā)表于：2017-11-22  作者：3136722  關(guān)注度：334

光刻(photoetching or lithography)是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后，晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。

       公司提供電子束光刻、激光直寫、步進(jìn)式光刻、接觸式光刻、硬掩膜光刻等光刻技術(shù)，線寬最小可達(dá)10nm，多種光刻結(jié)合的先進(jìn)光刻理念，實(shí)現(xiàn)了不同尺寸的光刻需求。

 服務(wù)流程：

 

  1. 客戶提出功能要求；

  2. 設(shè)計(jì)工程師進(jìn)行結(jié)構(gòu)、尺寸和工藝設(shè)計(jì)；

  3. 確認(rèn)設(shè)計(jì)方案、制備周期和價(jià)格；

  4. 開始制備；

  5. 交付產(chǎn)品。

商家資料

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服務(wù)熱線

4001027270

功能和特性

價(jià)格和優(yōu)惠

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