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納米壓印光刻技術(shù)（nano-imprintlithography,nil）是將一具有納米圖案的模版以機(jī)械力（高溫、高壓）在涂有高分子材料的硅基板上等比例壓印復(fù)制納米圖案，其加工分辨力只與模版圖案的尺寸有關(guān)，而不受光學(xué)光刻的最短曝光波長(zhǎng)的物理限制。由于省去了光學(xué)光刻掩模版和使用光學(xué)成像設(shè)備的成本，因此NIL技術(shù)具有低成本、高產(chǎn)出的經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì)。此外，NIL技術(shù)可應(yīng)用的范圍相當(dāng)廣泛，涵蓋納米電子元件、生物或化學(xué)的硅片實(shí)驗(yàn)室、微流道裝置（微混合器、微反應(yīng)器），超高存儲(chǔ)密度磁盤、微光學(xué)元件等領(lǐng)域。
我司提供定制硅基硬模板和鎳基軟模板，模板面積、寬度/直徑、周期、高度/深度等具體參數(shù)請(qǐng)與我司聯(lián)系咨詢。
服務(wù)流程：
客戶提出功能要求；
設(shè)計(jì)工程師進(jìn)行結(jié)構(gòu)、尺寸和工藝設(shè)計(jì)；
確認(rèn)設(shè)計(jì)方案、制備周期和價(jià)格；
開始制備；
交付產(chǎn)品。
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