服務(wù)熱線
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江蘇英特神斯科技有限公司MEMS加工平臺(tái)位于南京浦口高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),平臺(tái)建于2009年,擁有100級(jí)凈化廠房40平方米,1000級(jí)凈化廠房300平方米。MEMS加工平臺(tái)擁有國(guó)內(nèi)一流的MEMS前道加工設(shè)備、技術(shù)和人才,面向國(guó)內(nèi)和全球客戶(hù),提供完整的MEMS器件設(shè)計(jì)加工服務(wù)。
光刻工藝
光刻工藝一般包括前處理、勻膠、對(duì)準(zhǔn)曝光、顯影、烘干等工藝步驟
光刻設(shè)備型號(hào):EVG620 雙面光刻機(jī)
對(duì)準(zhǔn)精度(20X目鏡)
正面0.5um 背面1.0um
處理晶圓尺寸:
襯底直徑150mm,襯底厚度0.1~10mm
勻膠設(shè)備
EVG150 全自動(dòng)涂膠機(jī)
國(guó)產(chǎn) KW-4A 手動(dòng)勻膠機(jī)
顯影設(shè)備
Mask Cleaner
設(shè)備型號(hào):Ultratech 603
100級(jí)潔凈烘箱/HDMS烘箱
SRD甩干機(jī)
設(shè)備型號(hào):SemiTool ST 470F / ST 870
鍵合工藝
可進(jìn)行的鍵合類(lèi)型:陽(yáng)極鍵合、共晶鍵合、焊料鍵合、硅硅鍵合(預(yù)鍵合)、玻璃-玻璃鍵合。
鍵合機(jī)型號(hào):EVG 520IS
處理晶圓尺寸:襯底直徑150mm
商家資料
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