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一站式MEMS解決方案

發(fā)表于：2017-12-14  作者：3139139  關(guān)注度：237

江蘇英特神斯科技有限公司MEMS加工平臺(tái)位于南京浦口高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，平臺(tái)建于2009年，擁有100級(jí)凈化廠房40平方米，1000級(jí)凈化廠房300平方米。MEMS加工平臺(tái)擁有國(guó)內(nèi)一流的MEMS前道加工設(shè)備、技術(shù)和人才，面向國(guó)內(nèi)和全球客戶(hù)，提供完整的MEMS器件設(shè)計(jì)加工服務(wù)。
光刻工藝
光刻工藝一般包括前處理、勻膠、對(duì)準(zhǔn)曝光、顯影、烘干等工藝步驟
光刻設(shè)備型號(hào)：EVG620 雙面光刻機(jī)
對(duì)準(zhǔn)精度（20X目鏡）
正面0.5um   背面1.0um
處理晶圓尺寸：
襯底直徑150mm，襯底厚度0.1~10mm


 


勻膠設(shè)備
EVG150 全自動(dòng)涂膠機(jī)


 

國(guó)產(chǎn) KW-4A 手動(dòng)勻膠機(jī)


 


顯影設(shè)備

Mask Cleaner
設(shè)備型號(hào)：Ultratech 603



100級(jí)潔凈烘箱/HDMS烘箱
 


 

SRD甩干機(jī)
設(shè)備型號(hào)：SemiTool  ST 470F / ST 870

鍵合工藝
可進(jìn)行的鍵合類(lèi)型：陽(yáng)極鍵合、共晶鍵合、焊料鍵合、硅硅鍵合（預(yù)鍵合）、玻璃-玻璃鍵合。
鍵合機(jī)型號(hào)：EVG 520IS
處理晶圓尺寸：襯底直徑150mm

商家資料

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4001027270

功能和特性

價(jià)格和優(yōu)惠

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