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光刻代加工

發(fā)表于:2019-10-24  作者:gdisit  關(guān)注度:556

 
設(shè)備名稱:光刻機(jī) /美國ABM
 
用途:光刻膠的圖形化
 
技術(shù)指標(biāo):
1. 紫外光波長:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可調(diào)
2. 樣品尺寸:6英寸及以下,光刻板尺寸3、4、5、7英寸
3. 分辨率:接觸曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm
4. 對(duì)準(zhǔn)精度:<1μm

案例:

 1μm線條光刻  多層光刻板套刻

                                                            1μm線條光刻                                                       多層光刻板精準(zhǔn)套刻

         廣東省半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院微納加工平臺(tái),擁有半導(dǎo)體器件制備工藝研發(fā)所需的整套儀器設(shè)備,可提供鍍膜、刻蝕、光刻等技術(shù)服務(wù),加工尺寸覆蓋2-6英寸。
        微納加工平臺(tái)面向國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)提供全方位的開放服務(wù),我們將對(duì)半導(dǎo)體材料與器件的深入研發(fā)給予全方位支持,為廣大科研單位和企業(yè)提供高品質(zhì)服務(wù)。



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