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光刻代加工

發(fā)表于：2019-10-24  作者：gdisit  關(guān)注度：556

 
設(shè)備名稱：光刻機(jī) /美國ABM
 
用途：光刻膠的圖形化
 
技術(shù)指標(biāo)：
1. 紫外光波長：365nm，曝光能量密度18-20mW/cm2可調(diào)
2. 樣品尺寸：6英寸及以下，光刻板尺寸3、4、5、7英寸
3. 分辨率：接觸曝光＜0.5μm，接近式曝光≤1μm
4. 對(duì)準(zhǔn)精度:＜1μm

案例：

 1μm線條光刻  多層光刻板套刻

                                                            1μm線條光刻                                                       多層光刻板精準(zhǔn)套刻

         廣東省半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院微納加工平臺(tái)，擁有半導(dǎo)體器件制備工藝研發(fā)所需的整套儀器設(shè)備，可提供鍍膜、刻蝕、光刻等技術(shù)服務(wù)，加工尺寸覆蓋2-6英寸。
        微納加工平臺(tái)面向國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)提供全方位的開放服務(wù)，我們將對(duì)半導(dǎo)體材料與器件的深入研發(fā)給予全方位支持，為廣大科研單位和企業(yè)提供高品質(zhì)服務(wù)。


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