網(wǎng)站首頁

中|EN

首頁 » 技術(shù)服務(wù)館 » 工藝方案設(shè)計(jì) » 刻蝕 » 正文

感應(yīng)耦合等離子刻蝕 刻蝕代加工

發(fā)表于：2019-10-24  作者：gdisit  關(guān)注度：711

 

設(shè)備名稱：感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)（ICP） /英國牛津儀器

用途：刻蝕GaN、Si、AlGaInP、AlGaN、SiO2、Si3N4等材料
 
技術(shù)指標(biāo)：
1. ICP離子源：0-3000W；RF射頻源：0-600W
2. 刻蝕氣體：Cl2、BCl3、Ar2、SF6、O2、CHF3
3. 樣品尺寸：27*2英寸、6*4英寸、1*6英寸
3. 基底刻蝕溫度： -20℃-80℃可調(diào)
4. 刻蝕均勻性：<±3%

 案例：
             GaN深刻蝕      
                                              GaN深刻蝕：各向異性刻蝕   

 Si深刻蝕
                                                 Si深刻蝕：各項(xiàng)同性刻蝕

        立足行業(yè)，回饋社會，本平臺將秉承“專業(yè)、穩(wěn)定、高效、合作共贏”的理念，竭誠為您服務(wù)


商家資料

提示：注冊 查看!

服務(wù)熱線

4001027270

功能和特性

價格和優(yōu)惠

微信公眾號