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    包郵 關(guān)注:1774

    mask aligner光刻機

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體二手設(shè)備-二手芯片制造前段設(shè)備

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    應(yīng)用領(lǐng)域
       電子封裝（晶片凸點和晶片級CSP）
       光電設(shè)備（LEDs，激光二極管，波導(dǎo)陣列）
       探測器  （CCD，近/遠 紅外，實時X射線）     
       MEMS 和MOEMS 設(shè)備顯示器  （LCDs，聚合體LCD，OLED）

    適用感光層
       適用與各種類型的光刻膠及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8
       適用與G, H, I線及深紫外曝光

    適用基材半導(dǎo)體材料

       Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT，LiNbO3, 石英, 玻璃,

       Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, metal

    特點

       使用365/400/436納米波長的近紫外波長,最小線寬可以做到0.6微米以下 

       CCD傳送圖像,操作員可以通過顯示器輕鬆完成掩范本和基板的對準,減少疲勞,降低誤操作

       同檔次設(shè)備中性價比極高,穩(wěn)定性媲美歐洲產(chǎn)品,完善的技術(shù)支援和業(yè)內(nèi)口碑良好的售后服務(wù)

       高效率的產(chǎn)能,45片-60片/小時

       機型設(shè)計簡潔,操作方便,功能升級無須更換機型,維護所需時間和成本極少 

       有SEMIAUTO/AUTO ALIGMENT,等自動化機型和功能可供選擇

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