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    mask aligner光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體二手設(shè)備-二手芯片制造前段設(shè)備

    庫(kù)       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    全國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
    應(yīng)用領(lǐng)域
       電子封裝(晶片凸點(diǎn)和晶片級(jí)CSP)
       光電設(shè)備(LEDs,激光二極管,波導(dǎo)陣列)
       探測(cè)器  (CCD,近/遠(yuǎn) 紅外,實(shí)時(shí)X射線)     
       MEMS 和MOEMS 設(shè)備顯示器  (LCDs,聚合體LCD,OLED)

    適用感光層
       適用與各種類型的光刻膠及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8
       適用與G, H, I線及深紫外曝光

    適用基材半導(dǎo)體材料

       Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT,LiNbO3, 石英, 玻璃,

       Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, metal

    特點(diǎn)

       使用365/400/436納米波長(zhǎng)的近紫外波長(zhǎng),最小線寬可以做到0.6微米以下 

       CCD傳送圖像,操作員可以通過(guò)顯示器輕鬆完成掩范本和基板的對(duì)準(zhǔn),減少疲勞,降低誤操作

       同檔次設(shè)備中性價(jià)比極高,穩(wěn)定性媲美歐洲產(chǎn)品,完善的技術(shù)支援和業(yè)內(nèi)口碑良好的售后服務(wù)

       高效率的產(chǎn)能,45片-60片/小時(shí)

       機(jī)型設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔,操作方便,功能升級(jí)無(wú)須更換機(jī)型,維護(hù)所需時(shí)間和成本極少 

       有SEMIAUTO/AUTO ALIGMENT,等自動(dòng)化機(jī)型和功能可供選擇

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