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    晶淼濕法金屬刻蝕機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    JM晶淼

    發(fā)貨期限:

    60-90天

    庫       存:

    50

    產(chǎn)       地:

    中國-江蘇省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
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    客服電話:4001027270

     濕法蝕刻設(shè)備,可廣泛用于IC生產(chǎn)和半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)中晶片的濕法化學(xué)工藝。該設(shè)備可有效去除硅片表面的有機(jī)物.顆粒.金屬雜質(zhì).自然氧化層及石英.塑料等附件器皿的污染物,且不破壞晶片表面特性。可用于擴(kuò)散前、光刻后、CMP后及氧化前等工藝的刻蝕清洗。例如:RCA清洗、SPM清洗、HPM清洗等

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