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適用于O2。獨家專用技術脫除原料氣中的CO、H2、CO2、H2O、CH4、碳氫化合物至PPb級。
※HPC終端OB系列純化器前端采用氧化催化劑,可將氣體中微量的H2、CO、CH4、TCH等雜質轉化為H2O、CO2而脫除。終端純化采用高效吸附劑,在常溫下可通過物理吸附深度脫除原料氣中的H2O、CO2等雜質。
產品特點 :
◆脫除雜質深度高
◆吸附容量大, 使用時間長相比國內現(xiàn)有的純化工藝,HPC –OM型純化技術不釋放碳氫化合物,常溫工作,節(jié)能環(huán)保。非消耗型純化材料,降低成本,純化深度高,使用壽命長。
應用領域:
MOCVD,MBE(化合物半導體工業(yè))、
SOI(硅晶體生長)、
LED(半導體照明)
IC(大規(guī)模集成電路)
PV(光伏太陽能)
氣體凈化、
光學纖維生產、
惰性氣體激光器、
氣相色譜儀等
光刻
零點氣純化
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