MUX200真空燒結(jié)爐設(shè)計(jì)基礎(chǔ)是真空加水冷控制,既可以保證空洞率,又可以提高降溫速率。
MUX200標(biāo)配的氣體包括:氮?dú)?、氮?dú)浠旌蠚怏w(95%/5%)以及甲酸??蛻舾鶕?jù)自己的實(shí)際情況,選擇相應(yīng)的氣體作為工藝氣體,不用為后續(xù)增加配置而煩惱。設(shè)備配置的PLC控制系統(tǒng),能很好的監(jiān)控抽真空、充氣體、加熱控制、以及水冷等操作,保證客戶的工藝穩(wěn)定。
MUX200是一個(gè)10L腔體,產(chǎn)品的性價(jià)比相對(duì)比較高,能滿足研究型和生產(chǎn)型的客戶使用。