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    包郵 關(guān)注:9146

    晶圓研磨拋光機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    MCF

    規(guī)格型號(hào):

    GNAD系列

    庫(kù)       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    英國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:MCF

    型號(hào):GNAD系列

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-晶圓減薄拋光設(shè)備-CMP磨拋機(jī)

    設(shè)備1MCF-3429

    具體設(shè)備詳情請(qǐng)咨詢專業(yè)銷售:  400-6988-696   
         
           GNAD系列高精度研磨拋光設(shè)備是MCF公司研制的覆蓋半導(dǎo)體材料,光電材料等應(yīng)用領(lǐng)域的精密磨拋設(shè)備。主要適用的材料包括:硅,砷化鎵,鈮酸鋰,光纖,碳化硅,藍(lán)寶石,碲鋅鎘等多種材料。

    設(shè)備結(jié)構(gòu)及功能

    GNAD系列精密研磨拋光機(jī)包括主機(jī),遠(yuǎn)程操控系統(tǒng),夾具,真空系統(tǒng),填料系統(tǒng),研磨拋光盤等。主機(jī)及所有的零備件均采用高防腐蝕材料,整機(jī)防腐,適用于多種半導(dǎo)體材料的化學(xué)機(jī)械研磨拋光。

    設(shè)備的功能參數(shù),可由獨(dú)立的遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)控制。遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)可根據(jù)用戶工藝等具體要求選擇無(wú)線或有線方式控制主機(jī)。
          
           夾具配備晶片研磨厚度在線監(jiān)測(cè)裝置,數(shù)字顯示,監(jiān)測(cè)精度≤1um,夾具自身對(duì)晶片的壓力連續(xù)可調(diào)。真空系統(tǒng)通過(guò)抽真空的方式將樣品直接吸附在樣品固定裝置底面。根據(jù)不同工藝要求,真空系統(tǒng)可以直接吸附樣品或者直接吸附貼有樣品的玻璃基板。

    自動(dòng)填料系統(tǒng)可根據(jù)不同的工藝要求,調(diào)整滴料速度,并在研磨料用完同時(shí)自動(dòng)停機(jī),以防止沒(méi)有研磨料時(shí)對(duì)樣品產(chǎn)生的損傷。

    設(shè)備可支持雙多通道進(jìn)料系統(tǒng)同時(shí)工作,實(shí)現(xiàn)化學(xué)研磨拋光等各種復(fù)雜的工藝。

    設(shè)備的擺臂配置樣品水平轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),大大提升了磨拋效率的同時(shí),也更好的控制樣品平整度。

    GNAD系列磨拋機(jī)具有實(shí)時(shí)在線監(jiān)控磨拋盤溫度變化和冷卻選配功能。盤溫接近預(yù)設(shè)溫度警戒值,設(shè)備會(huì)自動(dòng)啟動(dòng)冷卻功能,保持磨拋盤在工藝要求的溫度范圍內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)工作。

    設(shè)備參數(shù)
           電源:                 240V、10A  / 110V、10A 
           晶圓尺寸:         GNAD60   6”/150mm x 3
           工作盤直徑:     GNAD60  300mm-420mm
           盤轉(zhuǎn)速:             0-120rpm 
           擺臂擺動(dòng)頻率: 0-30spm
           工作時(shí)間:         0-10小時(shí)

           MCF公司可根據(jù)用戶需求,提供完整的工藝方案,同時(shí)定制匹配方案的設(shè)備機(jī)型。詳情請(qǐng)聯(lián)系銷售代表。

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    請(qǐng)問(wèn)該設(shè)備研磨精度最大能達(dá)到什么程度

    yirongwei1994918  2017-06-30

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    4001027270

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