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MEMS加工

發(fā)表于：2018-04-19  作者：startmems  關(guān)注度：195

1，光刻
   1X光刻，步進(jìn)式光刻，雙面對(duì)準(zhǔn)光刻
2.薄膜沉積
   LP SIN OXIDE, PE SIN OXIDE,
3,金屬沉積
  Pt， Au， Al的蒸發(fā)和濺射
4，刻蝕
 濕法腐蝕 SIN oxide ，Al， SIN
 干法
5，光刻版制版
6，封裝劃片
7，減薄，激光切割




























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