第三代半導(dǎo)體材料精密磨拋解決方案 ——MCF精密磨拋設(shè)備

發(fā)表于：2018-01-03  作者：dsm1219  關(guān)注度：367

GNAD系列高精度研磨拋光設(shè)備是MCF公司研制的覆蓋半導(dǎo)體材料，光電材料等應(yīng)用領(lǐng)域的精密磨拋設(shè)備。主要適用的材料包括：硅，砷化鎵，鈮酸鋰，光纖，碳化硅，藍(lán)寶石，碲鋅鎘等多種材料。

設(shè)備結(jié)構(gòu)及功能

GNAD系列精密研磨拋光機(jī)包括主機(jī)，遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)，夾具，真空系統(tǒng)，填料系統(tǒng)，研磨拋光盤等。

GNAD系列精密研磨拋光機(jī)，主機(jī)及所有的零備件均采用高防腐蝕材料，整機(jī)防腐，適用于多種半導(dǎo)體材料的化學(xué)機(jī)械研磨拋光。

設(shè)備的功能參數(shù)，可由獨(dú)立的遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)控制。遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)可根據(jù)用戶工藝等具體要求選擇無線或有線方式控制主機(jī)?？刂葡到y(tǒng)可根據(jù)用戶工藝要求選擇獨(dú)立于設(shè)備主機(jī)的距離，這個(gè)配置既提高了化學(xué)磨拋工藝過程中對(duì)操作人員健康安全的保護(hù)等級(jí)，更是避免了磨拋過程中產(chǎn)生的磨拋液廢料腐蝕操作控制系統(tǒng)。通過獨(dú)立的遠(yuǎn)程控制系統(tǒng)也可實(shí)現(xiàn)多機(jī)聯(lián)控，通過一個(gè)控制終端實(shí)現(xiàn)對(duì)多臺(tái)磨拋機(jī)的控制，也方便了工藝過程中更改工藝參數(shù)的操作，更實(shí)現(xiàn)多道工藝同時(shí)精準(zhǔn)數(shù)控，大大提高了工作效率及工藝精度。 

夾具可在線監(jiān)測(cè)樣品的去除量，精度可實(shí)現(xiàn)1ｕｍ．并可根據(jù)用戶工藝要求定制各種角度附件等非標(biāo)夾具附件，實(shí)現(xiàn)對(duì)非標(biāo)形狀樣品的拋光及角度拋光。

設(shè)備可支持多通道進(jìn)料系統(tǒng)同時(shí)工作，實(shí)現(xiàn)化學(xué)研磨拋光等各種復(fù)雜的工藝?！?/span>

設(shè)備具有實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)工藝過程中磨拋盤面形的功能，并可實(shí)時(shí)在線修整磨拋盤的面型。盤面形控制精度1um。

GNAD系列磨拋機(jī)具有實(shí)時(shí)在線監(jiān)控磨拋盤溫度變化和冷卻功能。盤溫接近預(yù)設(shè)溫度警戒值，設(shè)備會(huì)自動(dòng)啟動(dòng)冷卻功能，保持磨拋盤在工藝要求的溫度范圍內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)工作。

GNAD系列磨拋設(shè)備具有設(shè)備定時(shí)功能，可連續(xù)工作運(yùn)行時(shí)間１０小時(shí)。同時(shí)，設(shè)備具有預(yù)設(shè)工作時(shí)間功能，預(yù)設(shè)時(shí)間達(dá)到，設(shè)備自動(dòng)停機(jī)，大大提升了設(shè)備的自動(dòng)化功能的同時(shí)也極大提升了工藝標(biāo)準(zhǔn)化操作。

設(shè)備具有自動(dòng)清洗功能。根據(jù)工藝要求可實(shí)時(shí)在線沖洗磨拋工作區(qū)域。流速，清洗時(shí)間等參數(shù)可精確數(shù)控。

設(shè)備特點(diǎn)

● 獨(dú)立遠(yuǎn)程操控系統(tǒng)，強(qiáng)腐蝕化學(xué)拋光過程實(shí)現(xiàn)人機(jī)分離遠(yuǎn)程操控。

●可在一個(gè)控制終端實(shí)現(xiàn)多機(jī)聯(lián)控

● 在線實(shí)時(shí)磨拋盤溫控及冷卻功能

● 多通道進(jìn)料系統(tǒng)

● 磨拋盤自動(dòng)沖洗功能

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