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2017年半導(dǎo)體市場(chǎng)資本支出再創(chuàng)歷史新高,同比增2成

發(fā)表于:2017-09-04  作者:dsm1219  關(guān)注度:129

IC Insights預(yù)測(cè),繼今年上半年半導(dǎo)體資本支出大幅增長(zhǎng)后,全年半導(dǎo)體資本支出預(yù)期上調(diào)至809億美元,比去年同期增長(zhǎng)20%,且高于預(yù)期資本支出53億美元,堪稱歷史最高。

  圖1

  如圖1所示,2017年為資本支出貢獻(xiàn)最大的為晶圓代工廠(28%)和閃存(24%)。隨著2016年第三季度以來(lái)DRAM價(jià)格的飆升,DRAM制造商將再次加大在這一領(lǐng)域的支出。預(yù)計(jì)到2017年,DRAM / SRAM的增長(zhǎng)將達(dá)到53%,有望成為今年資本支出增長(zhǎng)的最大百分比。經(jīng)分析,大部分資本支出仍在升級(jí)技術(shù)方面,但DRAM生產(chǎn)商SK Hynix分析稱,不單單投入在技術(shù)升級(jí),更花費(fèi)在產(chǎn)能提高上。

  即使是今年支出激增,2017年閃存(190億美元)的資本支出仍將遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于DRAM / SRAM(130億美元)。IC Insights認(rèn)為,2017年閃存的所有支出都將用于3D NAND工藝技術(shù)改良,包括三星電子在韓國(guó)平澤掀起的3D NAND熱浪。

  總體而言,預(yù)計(jì)在2016年強(qiáng)勁增長(zhǎng)23%之后,閃存的資本支出將在2017年實(shí)現(xiàn)33%的增長(zhǎng)。然而,歷史先例表明,資本支出的激增通常會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)能過(guò)剩和定價(jià)疲軟。在未來(lái)幾年里,與三星、海力士、微軟、英特爾、東芝、西部數(shù)據(jù)、SanDisk和武漢新芯/長(zhǎng)江存儲(chǔ)技術(shù)有關(guān)的3D NAND閃存容量將有大幅度提升,而且新的中國(guó)生產(chǎn)商可能會(huì)進(jìn)入市場(chǎng),IC Insights認(rèn)為未來(lái)隨著3D NAND 閃存市場(chǎng)需求的增長(zhǎng)加大,也將會(huì)面臨更大風(fēng)險(xiǎn)

 

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