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適用范圍:
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
主要用途:
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭閥片、液壓密、不銹鋼、等各種材料的單面研磨、拋光。
高精密研磨機(jī)(帶水冷修面研磨機(jī))設(shè)備原理:
1. 本研磨機(jī)為精密研磨設(shè)備,被研磨產(chǎn)品放置于研磨盤(pán)上,研磨盤(pán)逆時(shí)鐘旋轉(zhuǎn),工件自己轉(zhuǎn)動(dòng),用重力加壓的方式對(duì)工件施壓,工件與研磨盤(pán)作相對(duì)旋轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到研磨目的。
2.修盤(pán)機(jī)采用油壓懸浮導(dǎo)軌,配合金剛石修面刀對(duì)研磨盤(pán)進(jìn)行精密修整,使研磨盤(pán)得到精密的平面度。
高精密研磨機(jī)(帶水冷修面研磨機(jī))設(shè)備特點(diǎn):
1.研磨盤(pán)平面度可達(dá)到±0.0002mm;直徑50mm工件加工后平面度可達(dá)到1/4波長(zhǎng)。
2.本研磨機(jī)工件加壓可采用壓重塊加壓方式,壓力可調(diào);
3.系列研磨機(jī)采用PLC程序控制,觸摸屏操作面板,研磨盤(pán)轉(zhuǎn)數(shù)與定時(shí)與研磨時(shí)間可以直接在觸摸屏上輸入、速度可調(diào),操作方便
4.研磨盤(pán)采用水冷循環(huán)系統(tǒng),溫度可控制在低溫狀態(tài)、誤差±1℃解決了磨削過(guò)程中產(chǎn)生熱量使工件變形。
.重力執(zhí)行氣缸在提升至上限位時(shí)具有保護(hù)鎖止功能(即在斷電斷氣狀態(tài)下能保持原狀態(tài))
5.設(shè)備設(shè)置三個(gè)工位(包含三套壓重與自鎖系統(tǒng)),可同時(shí)進(jìn)行3組產(chǎn)品的拋光研磨加工。
6.研磨液(或冷卻液)循環(huán)加注系統(tǒng);
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深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司
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