1、主要用于半導體晶圓2〞、3〞、4"、6"的除蠟和清洗;
2、清洗槽為雙層結構,外槽為SUS316,內槽為石英槽GE214;
3、骨架材料不銹鋼,外包板和門板為德國進口PP板,觀察窗為透明PVC;
4、外圍直接連接藥液供給設備、純水設備;
5、外槽有超聲波和內槽有拋動系統(tǒng),輔助設備清洗;
6、采用伺服電機、導軌、絲桿提升、橫移,運行更穩(wěn)定,準確;
7、輸送精準≤0.3mm,溫控精度≤0.5℃;
8、裝有排氣系統(tǒng),確保環(huán)境條件;
9、PLC全程序控制及觸摸屏人機界面操作。