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    光發(fā)射顯微鏡EMMI

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體測試設備

    產品品牌

    ADVANCED

    庫       存：

    100

    產       地：

    中國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付
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    品牌：ADVANCED

    型號：

    所屬系列：半導體測試設備

     光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式，必不可少的分析工具。器件在設計、生產制造過程中有絕緣缺陷，或者期間經過外界靜電擊穿，均會造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下，內部形成流動電流，漏電位置的電子會發(fā)生遷移，形成電能向光能的轉化，即電能以光能的方式釋放，從而形成200nm~1700nm紅外線。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測器，通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的紅外線，從而精準的定位到器件的漏電點。我司推出的P-100光發(fā)射顯微鏡(EMMI),在同業(yè)中具有超高的性價比,并憑借良好的售后服務,迅速占領市場.目前大中國地區(qū)的知名失效分析客戶有: 上海宜碩、深圳宜智發(fā)、上海閎康、上海礬詮、廣州五所、北京電科院、東南大學、樂山菲尼克斯、深圳明微。。。。。。 

                    

                    Junction Leakage                                  Oxide Leakage

                           ESD Damage                        Avalanche-20x Backside Image

     

                          Poly Filaments                              Backside Observation 

      

     

     

     

    		    

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