本設(shè)備適用于2寸--8寸晶片清洗,工藝過(guò)程:上料--去離子水超聲清洗--去離子水加熱清洗--去離子水清洗--下料。超聲清洗,加熱清洗為單槽定時(shí)控制,到時(shí)給予結(jié)束提示音。結(jié)構(gòu)特點(diǎn):本設(shè)備為柜體式,設(shè)備操作門(mén)可分為:上下推拉門(mén)和折疊門(mén),并帶有透明窗。槽體材料為德國(guó)進(jìn)口PP板,外形美觀實(shí)用。設(shè)備超聲、加熱清洗時(shí)間由PLC控制。加熱槽裝有溫控表和傳感器。每個(gè)清洗槽互不影響,清洗槽的上下水由電磁閥控制。配有美國(guó)進(jìn)口氮**和**。電控部分為正壓保護(hù)方式,配有緊急停機(jī)及報(bào)警裝置。