該設(shè)備主要用于清除硅(芯)片表面的廢屑、金屬離子等物質(zhì),是硅(芯)片生產(chǎn)過程中重要工序。設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn):1.可靠的控制系統(tǒng);2.觸摸屏控制顯示 ;3.可設(shè)置和存儲(chǔ)工藝菜單;4.高壓去離子水泵5.噴頭H軸Y軸調(diào)節(jié)6.在線電阻率檢測水質(zhì);7.清洗后高純氮?dú)飧稍锬K;8.自動(dòng)排水裝置;9.對硅片定位框架的安全定位。設(shè)備的主要技術(shù)指標(biāo)可按用戶要求定做。