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    hmds烘箱,hmds增粘烤箱

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-其他

    產(chǎn)品品牌

    雋思

    規(guī)格型號(hào):

    90

    發(fā)貨期限:

    25天

    庫(kù)       存:

    20

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
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    品牌:雋思

    型號(hào):90

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-其他

    HMDS真空烘箱的原理:      

       HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

    HMDS預(yù)處理的必要性:

      在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn):

    1、預(yù)處理性能更好

    2、處理更加均勻

    3、效率高

    4、更加節(jié)省藥液

    5、更加環(huán)保和安全   

    6、低液報(bào)警裝置

    7、可自動(dòng)吸取HMDS功能,

    8、可自動(dòng)添加HMDS功能

    9、HMDS藥液泄漏報(bào)警功能,


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