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一、工藝指標

*1、電鍍均勻性：晶圓上，全片柱高差異（max-min）/2的平均值小于5%；如果電鍍窗口尺寸較小，在4mm²以下則全片柱高差異小于8%。

*2、重復(fù)性：不同晶圓片間平均柱高差異小于3%。

二、硬件指標

1、具有晶圓傳輸系統(tǒng)

*2、水平式晶圓電鍍銅腔體，50L；可用溫度20-30°C，精度為±0.5°C及以上；液流速度可達30L/min，帶過濾器，過濾1μm以上雜質(zhì)，在線加熱和在線除氣。

2.1 陽極：惰性陽極，Ti板覆鉑材質(zhì)

＃2.2 電源供應(yīng)：大量程，50A及以上，精度50mA及以上，帶脈沖功能

2.3 腔體材料PP，線材為PFA

＃2.4 八寸夾具：帶有橡膠包裹或其他達到同類效果的密封技術(shù)

2.5 具有電鍍槽沖洗功能

＃2.6 有夾具長度檢測功能，夾具觸點清潔功能

*3、水平式晶圓電鍍鎳腔體，50L；可用溫度40-70°C，精度為±0.5°C及以上；液流速度可達30L/min，帶1μm過濾器，在線加熱和在線除氣功能。

3.1 陽極：惰性陽極，Ti板覆鉑材質(zhì)

＃3.2電源供應(yīng)：大量程，50A及以上，精度50mA及以上，帶脈沖功能

3.3 腔體材料PP，線材為PFA

＃3.4 八寸夾具：帶有橡膠包裹或其他達到同類效果的密封技術(shù)

3.5 帶監(jiān)控高分辨率攝像頭

3.6 具有電鍍槽沖洗功能

3.7 有夾具觸點清潔功能

4、預(yù)潤濕槽

*4.1 可抽真空，且真空壓力可調(diào)，適合于200μm深孔TSV和4mm²窄間距器件電鍍

＃4.2 可旋轉(zhuǎn)噴嘴，增大潤濕范圍

4.3 有化學(xué)試劑排放措施。

4.4 帶N2吹掃

＃4.5 帶過濾功能，可防止0.5μm顆粒物引入

4.6晶圓夾具, 真空壓力值在25 torr to 200 torr可調(diào)

# 5在國內(nèi)擁有一定數(shù)量的用戶群，在晶圓封測領(lǐng)域需提供擁有同款型號產(chǎn)品的客戶；以確保有足夠的技術(shù)支持和售后服務(wù)能力，并提供詳實的客戶信息和聯(lián)系方式。

8寸晶圓晶圓電鍍機

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