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    HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    產(chǎn)品品牌

    上海雋思

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    122.00
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    品牌:上海雋思

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-其他

     HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)
    HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)的原理:
          HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
     HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)的必要性:
    在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。
     HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)技術參數(shù)
    電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
    輸入功率:2200W
    溫度范圍:RT+10℃-250℃
    溫度分辨率:0.1℃
    溫度波動度:±1℃
    達到真空度:133Pa(1torr)
    工作室尺寸(mm):450*450*450,800*800*800(可定做)
     HMDS預處理系統(tǒng),HMDS真空增粘系統(tǒng)特點:
    1、預處理性能更好
    2、處理更加均勻
    3、效率高
    4、更加節(jié)省藥液
    5、更加環(huán)保和安全
    6、低液報警裝置
    7、可自動吸取HMDS功能
    8、可自動添加HMDS功能
    9、HMDS藥液泄漏報警功能

    更多高端配置及詳細資料請聯(lián)系我們,我們給您提供安全可靠的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品。謝謝!


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