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Oxidator 150
高溫氧化爐
Oxidator 150 高溫爐由 centrotherm thermal solutions 設(shè)計(jì)開發(fā),專門用于硅-碳化合物(SiC)的氧化處理。設(shè)備最高可承受 1400°C 的工藝溫度,氧化工藝使用 O2、N2O、NO、NO2 或濕法氧化氣體,靈活性和工藝質(zhì)量極佳。
Oxidator 150 裝有非金屬加熱裝置和雙真空,是當(dāng)前市場上最安全的毒性氣體氧化爐。
批量處理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它組合
最高加熱率可達(dá) 7.5 K/min
批量規(guī)模高達(dá) 50片硅片(150 mm)
工藝壓力:850 mbar 至常壓下
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