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美國(guó)ABM正面對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 怡和瑞豐設(shè)備商城

設(shè)備型號(hào)：ABM/6/350/NUV/DCCD/M

光學(xué)系統(tǒng)：

   曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
   365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；
   聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo)；
   有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器；
   全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
   波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置
   抗衍射反射功能高效反光鏡；
   二向色的防熱透鏡裝置；
   防汞燈泄漏裝置；
   配備蠅眼棱鏡裝置
   配備近紫外光源，
    --220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2
    --254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2
    --365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2
    --400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2

主要配置：

   6“，8”光源系統(tǒng)
   可支持2“，3”，4“，6”，8“（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計(jì)）
   手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng),
   支持電源350-2000 Watt
   支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）
CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

主要性能指標(biāo)：

   光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:：
    --<±1% over 2” 區(qū)域
    --<±2% over 4” 區(qū)域
    --<±3% over 6” 區(qū)域
   接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
   接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
   支持接近式曝光，特征尺寸CD：
    --0.8um  硬接觸
    --1um    20 um 間距時(shí)
    --2um    50um 間距時(shí)
   正面對(duì)準(zhǔn)精度±0.5um
   支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
   支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
   支持真空、接近式、接觸式曝光
   支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式

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