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4001027270
本機(jī)是制造中、大規(guī)模集成電路,傳感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻設(shè)備。
1、適用的掩模尺寸: | |
?。?)100*100*2-3mm (2)75*75*2-3mm ?。?)63*63*2-3(選購) | |
2、適用的硅片尺寸: | ф35-ф75mm |
3、光刻圖形線條: | 3~4чm,最細(xì)可達(dá)2чm |
4、掩模與硅片之間的相對位移范圍: | X/Y±2.5mm,(旋轉(zhuǎn))±6° |
5、承片臺(硅片)繞主軸旋轉(zhuǎn): | 粗調(diào)360度,可微調(diào) |
6、承片工作臺綜合移動(dòng)范圍: | X,Y合成ф75mm |
7、承片臺的球座平面至掩模板面升降: | 0-7.5mm |
8、曝光燈源:GCQ200W超高壓汞燈,曝光波長: | 300-436nm |
9、曝光系統(tǒng)能量不低于: | 7mw |
10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度在φ75mm范圍內(nèi): | ±5% |
11、顯微鏡的照明波長: | ≈545nm |
12、曝光時(shí)間控制范圍: | 0.1秒~99分 |
13、雙目顯微鏡的放大倍數(shù): | |
?。?)目鏡共二種:10X,16X ?。?)平視場物鏡共三種:6X,9X,15X ?。?)合成放大倍率:60X-240X | |
14、真空接觸壓力: | ≥0.7kgf |
15、裝箱尺寸: | 1000*850*980mm(2只) |
16、裝箱重量: | 200kg |
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