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當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » UV光刻機(jī) »JKG-2A型 光刻機(jī) 上海學(xué)澤光學(xué)機(jī)械有限公司
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    包郵 關(guān)注:1401

    JKG-2A型 光刻機(jī) 上海學(xué)澤光學(xué)機(jī)械有限公司

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    勞動(dòng)牌

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：勞動(dòng)牌

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    JKG-2A型 光刻機(jī) 上海學(xué)澤光學(xué)機(jī)械有限公司 設(shè)備商城

     
     

    本機(jī)是制造中、大規(guī)模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設(shè)備。

    主要技術(shù)參數(shù)

    1、適用的掩模尺寸：
    　?。?）100*100*2-3mm　　（2）75*75*2-3mm　?。?）63*63*2-3（選購）
    2、適用的硅片尺寸： ф35-ф75mm
    3、光刻圖形線條： 3~4чm，最細(xì)可達(dá)2чm
    4、掩模與硅片之間的相對位移范圍： X/Y±2.5mm，（旋轉(zhuǎn)）±6°
    5、承片臺（硅片）繞主軸旋轉(zhuǎn)： 粗調(diào)360度，可微調(diào)
    6、承片工作臺綜合移動(dòng)范圍： X,Y合成ф75mm
    7、承片臺的球座平面至掩模板面升降： 0-7.5mm
    8、曝光燈源：GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長： 300-436nm
    9、曝光系統(tǒng)能量不低于： 7mw
    10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度在φ75mm范圍內(nèi)： ±5%
    11、顯微鏡的照明波長： ≈545nm
    12、曝光時(shí)間控制范圍： 0.1秒~99分
    13、雙目顯微鏡的放大倍數(shù)：
    　?。?）目鏡共二種：10X,16X　?。?）平視場物鏡共三種：6X,9X,15X　?。?）合成放大倍率：60X-240X
    14、真空接觸壓力： ≥0.7kgf
    15、裝箱尺寸： 1000*850*980mm（2只）
    16、裝箱重量： 200kg

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