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    SC-450,SPS-TG磁控濺射鍍膜機 上海載德半導體

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

    規(guī)格型號:

    SC-450,SPS-TG

    庫       存:

    100

    產       地:

    美國

    數       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌:

    型號:SC-450,SPS-TG

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

           
        SC-450,SPS-TG磁控濺射鍍膜機
        產地:美國、韓國;

    型號:SC-450,SPS-TG;


    磁控濺射技術是最常用的一種物理氣相沉積技術。磁控濺射鍍膜機可用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料,具有設備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等優(yōu)點,因此被廣泛使用。


    技術規(guī)格特點:

    - 腔體:鋁合金或不銹鋼材料可供客戶選擇,不同尺寸的箱式腔室可選;

    - 泵:分子泵,冷凝泵可選;

    - Load Lock樣品傳輸腔室:手動或自動傳輸,高真空,支持多種樣品襯底;

    - 與手套箱兼容;

    - 工藝控制:PC/PLC機制的自動控制,使用GUI進行工藝控制、數據處理、遠程支持;

    - 原位監(jiān)控:石英晶振監(jiān)測(QCM),光學監(jiān)測,殘余氣體分析,其他原位監(jiān)測技術或控制;

    - 襯底固定:單襯底固定,多襯底固定,行星式襯底固定,客戶化襯底固定方式;

    - 襯底夾具:加熱,冷卻,偏置,旋轉等;

    - 離子源:襯底預先清洗輔助沉積,納米尺度表面修飾;

    - 磁控濺射沉積技術:射頻(RF),直流(DC),脈沖直流(Pulsed-DC);

    - 靜態(tài)濺射,共濺射,反應濺射,在線濺射;

     

    儀器特點:

    • 腔體材料:不銹鋼,鋁,或者Bell Jar;

    • 分子泵:70,250,500 l/sec; 一級泵:機械泵或干泵;

    • 13.5MHz, 300-600W射頻電源;1KW直流電源;

    • QCM在線厚度測量,厚度分辨率<0.1nm;

    • 帶有觀察窗的門,方便樣品取放;

    • Labview軟件,PC控制;

    • 多重密碼保護;

    • 全安全互鎖設計;

     

    選配功能:

    • 向上,向下,側向濺射;

    • 射頻,直流、脈沖直流濺射;

    • 共濺射,反應濺射;

    • 組合濺射;

    • 射頻、直流偏置(1000V);

    • 基底加熱:不高于700攝氏度;

    • 厚度監(jiān)控;

    • 基底射頻等離子清洗;

    • Load-Lock,以及自動樣品取放;

     

    不同型號選擇:

    • NSC系列,立式磁控濺射系統(tǒng);

    • NSC系列,立式緊湊磁控濺射系統(tǒng);

    • NSC系列,臺式磁控濺射系統(tǒng);

    • 雙腔體系統(tǒng),NSR系列,磁控濺射+反應離子刻蝕(RIE);

    • 雙腔體系統(tǒng),NSP系列,磁控濺射+PECVD;

    • 雙腔體系統(tǒng),NST系列,磁控濺射+熱蒸發(fā);

     

    參考用戶

      西北工業(yè)大學、廣東工業(yè)大學等.

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