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    包郵 關(guān)注:591

    多靶磁控濺射鍍膜機PVD 沈陽金研

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-遼寧省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

    多靶磁控濺射鍍膜機PVD 沈陽金研

    1.設備用途

    1.1用于各種金屬薄膜、半導體薄膜、介質(zhì)薄膜、超晶格薄膜、集成光學薄膜、多層薄膜和薄膜器件的制備；
    1.2廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備；
    2.技術(shù)指標

    真空度及抽速 濺射室極限真空度：≤6x10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后)；
    系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5x10-7Pa.l/S；
    系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室35分鐘可達到6x10-4 Pa；
    系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度：≤5Pa；
    真空獲得及測量 復合分子泵+機械泵+超高真空插板閥。采用數(shù)顯復合真空計測量：10-5Pa到大氣壓
    真空室 真空室為圓筒形立式前開門結(jié)構(gòu)，尺寸約Ф450mmx600mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)。可內(nèi)烘烤到100～150℃，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行化學拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封；手動前開門結(jié)構(gòu)
    磁控靶 進口2英寸永磁靶，3支，其中一支為強磁靶（濺射鐵磁性材料）；射頻與直流兼容；單獨氣動擋板。
    樣品 樣品尺寸≤Φ100mm；可加熱室溫—600°C，熱電偶閉環(huán)控制。5—10轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)，單獨擋板，可加-200V偏壓。
    配套電源 直流電源500W，2臺；射頻電源（13.56MHz）500W,自動匹配：1臺
    氣路 100SCCM（Ar）、50SCCM（O2）質(zhì)量流量控制器
    水冷系統(tǒng) 冷卻循環(huán)水機組，制冷量3KW。相關(guān)分水器，閥門等。水路報警系統(tǒng)。
    控制系統(tǒng) 自動或手動

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