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    URE-2000/35型紫外光刻機 成都晶普科技有限公司

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    晶普

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:晶普

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品名稱:URE-2000/35型紫外光刻機

    主要技術指標:

    曝光面積:100mm×100mm
    分辨力:1um(膠厚1.5μm的正膠)
    對準精度:±0.8μm
    最大膠厚:300μm(SU8膠)
    掩模尺寸:2.5 inch、3 inch、4 inch、5 inch
    樣片尺寸:直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm);
    照明均勻性:±4%(Ф100mm 范圍)
    汞燈功率:350W(直流)
    掩模相對于樣片運動行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°

    技術特點:

    創(chuàng)新采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調(diào)平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復位實現(xiàn)自動化控制;采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明;可連續(xù)設定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。

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