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    單面紫外光刻機URE-2000/17 鑫有研電子科技有限公司

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    單面紫外光刻機URE-2000/17 鑫有研電子科技有限公司

    簡單介紹:光刻機:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光機, 該型號光刻機創(chuàng)新采用采用雙目雙視場顯微鏡對準;球碗調(diào)平,單片機控制,觸摸開關,操作方便、實用性強。整機具有性能可靠、操作方便等特點。

    一.技術特征

    1、采用國內(nèi)獨創(chuàng)的多點梯形反射鏡聚光和實現(xiàn)均勻照明,具有高的能量收集率和高均勻性照明性;  

    2、采用進口直流高壓汞燈,光功率穩(wěn)定;
    3、采用i線(365nm)紫外曝光光源,波長單一,光譜純凈;    
    4、高倍率雙目雙視場CCD顯微鏡和22英寸寬屏液晶,可同時觀察對準過程,適用大視場高倍率對準;

    5、采用薄膜開關操作,數(shù)字設定曝光時間,倒計時數(shù)顯,曝光量可精確控制;      

    6、配置無油真空泵,無污染,噪音??;

    7、關鍵器件采用進口國際品牌產(chǎn)品,整機可靠性高。

     


    二.技術參數(shù)  
    1、曝光面積:110mm×110mm

    2、曝光波長:365nm(純凈光源)
    2、分辨力: 1.5µm    
    3、對準精度:
    ± 1µm
    4
    、掩模樣片整體運動范圍:X:6mm;Y:6mm
    5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
    6、
    直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm);  
    7、照明均勻性:±5%

    9、掩模相對于樣片運動行程:  X:±5mm;  Y:±5mm;
    θ: ±6
    10、汞燈功率:200W(直流、德國歐司朗)
    11、曝光量設定:定時曝光 定時(到計時方式 0.1s-9999.9s任意設定、設定精度0.1s)

    12、雙目雙視場顯微鏡:物鏡三隊:4X、10X、20X,目鏡三對:10X、16X、20X

     

    應用領域
    集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統(tǒng)、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等

     

    URE系列紫外光刻機系我公司重點推薦產(chǎn)品

    曾出口:新加坡,韓國,朝鮮,緬甸,老撾等

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