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    Advanced LKJ系列離子束刻蝕系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-IBE離子束

    產(chǎn)品品牌

    埃德萬斯

    庫       存：

    10000

    產(chǎn)       地：

    中國-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：埃德萬斯

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-IBE離子束

    功能概述

    該系統(tǒng)為通用離子束刻蝕系統(tǒng)，除了可進行傳統(tǒng)三維結(jié)構(gòu)刻蝕外，還可實現(xiàn)離子束清洗、材料表面終極拋光和材料減薄等功能，還可實現(xiàn)化學(xué)輔助離子束刻蝕（CAIBE）與反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）。

    可加工材料

    系統(tǒng)可用于刻蝕加工各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等各種材料。

    應(yīng)用領(lǐng)域

    廣泛適用于半導(dǎo)體、光學(xué)、光電子、微電子、微機械、X

    射線近代光學(xué)、通信、導(dǎo)航、衛(wèi)星、導(dǎo)彈、雷達、核聚變、超導(dǎo)、生物、醫(yī)學(xué)、傳感器等多個技術(shù)領(lǐng)域，制造各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件。

     

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