服務(wù)熱線
4001027270
功能概述
該系統(tǒng)為通用雙離子束薄膜沉積系統(tǒng),可用于濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導(dǎo)體材料的單層薄膜、多層薄膜,也可將單質(zhì)材料通過反應(yīng)合成氧化物、氮化物、碳化物薄膜。
工作模式
襯底表面離子束濺射清洗(IBSC)
襯底表面離子束終極拋光(IBP)
離子束濺射沉積(IBSD)薄膜
離子束輔助—離子束濺射沉積(IBA-IBSD)薄膜
離子束輔助—離子束濺射沉積合成(IBA-IBSDS)化合物薄膜
IBSD-Lift-off薄膜
應(yīng)用領(lǐng)域
適用于各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件的科學(xué)研究與批量生產(chǎn),尤其在制造納米薄膜器件領(lǐng)域具有獨特的技術(shù)優(yōu)勢。
最寬范圍材料適用性
與其它常規(guī)CVD、PVD鍍膜技術(shù)相比,離子束濺射鍍膜具有對薄膜材料最普遍的適用性,可濺射沉積的薄膜種類包括金屬、非金屬、合金、化合物和其它任何固體材料。
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