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    EVG620系列單面/雙面光刻機

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    EVG

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    中國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:EVG

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

     一、 簡介

     

    EVG公司成立于1980年,公司總部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。

    EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。

    目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。

    EVG620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備,可配置為半自動也可以為全自動形式。EVG620既可以用作雙面光刻機也可以用作150mm硅片的精確對準(zhǔn)設(shè)備;既可以用作研發(fā)設(shè)備,也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補償系統(tǒng)配以計算機控制的壓力調(diào)整可以確保良率和掩膜板壽命的大幅提升,進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。EVG620先進(jìn)的對準(zhǔn)臺設(shè)計在保證精確的對準(zhǔn)精度和曝光效果的同時,可以大幅提高產(chǎn)能。

     

    二、應(yīng)用范圍

    EVG光刻機主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統(tǒng)(MEMS)、硅片凸點、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域,涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應(yīng)用。

     

    三、主要特點

    u 雙面對準(zhǔn)光刻和鍵合對準(zhǔn)工藝

    u 自動的微米計控制曝光間距

    u 自動契型補償系統(tǒng)

    u 優(yōu)異的全局光強均勻度

    u 免維護(hù)單獨氣浮工作臺

    u 高度自動化系統(tǒng)

    u 快速更換不同規(guī)格尺寸的硅片

    u 可選配Nanoalign技術(shù)包以達(dá)到更高的工藝能力

    u 薄硅片或翹曲硅片處理系統(tǒng)可選

    u Windows圖形化用戶界面

    u 完善的多用戶管理(用戶權(quán)限、界面語言、菜單和工藝控制)

    u 光刻工藝模擬軟件可選

     EVG設(shè)備咨詢:

    18612385131

    歡迎來電咨詢!

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