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    德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導體行業(yè):

    半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    德國Eulitha

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:德國Eulitha

    型號:

    所屬系列:半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

     

    德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng) 

    科研/生產(chǎn)兼用 

    簡介: 

    PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng),但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù),在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結(jié)果非常均勻,質(zhì)量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

    特點: 

    · 高效的大面積亞微米-納米圖形化設(shè)備

    · 操作簡單、工作穩(wěn)定,兼容科研及批量生產(chǎn)

    · 納米周期性圖案解決方案

    優(yōu)勢

    · 大面積圖形化設(shè)備:適用4、6、8寸襯底

    · 高曝光效率:非步進式曝光,無拼接,單次全場曝光實現(xiàn)整片圖形化

    · 高精度:光學衍射自成像原理,突破傳統(tǒng)曝光精度極限

    · 非接觸式曝光

    · 設(shè)備沒有景深限制,曝光過程無需對焦

    · 雙工作模式(UV375機型):高分辨模式(周期性納米-微米結(jié)構(gòu)),一般紫外光刻模式(非周期結(jié)構(gòu))

    · 設(shè)備采用通用的商業(yè)光刻膠,根據(jù)客戶的圖形,提供工藝技術(shù)支持。

     

    PhableR 100革新性紫外光刻機 

     

     

     

    技術(shù)指標: 

    光源

    UV375nm

    DUV266nm

    DUV193nm

    分辨率

    125nm

    75nm

    62nm

    周期范圍

    250-3000nm

    150-2500nm

    125-2000nm

    操作方式

    手動裝片-自動曝光

    參數(shù)設(shè)置

    觸摸屏

    基片尺寸

    最大4、6、8英寸(尺寸向下兼容)

    PhableR 100 晶圓級光子學結(jié)構(gòu)的曝光工具

    應(yīng)用: 

    · 圖形化藍寶石襯底(PSS)

    · DFB布拉格光柵

    · 減反層圖形

    · 顯示濾光片Color Filter

    · 線柵偏振Wire Grid Polarizer(WGP)

    · 光子晶體

    · 磁性納米結(jié)構(gòu)

    · 太陽能光伏

    · 生物傳感器

    · AR、VR技術(shù)

     

     

     

     

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