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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積

發(fā)表于：2020-04-14  作者：ioptee01  關(guān)注度：533

 聯(lián)系方式：18951907529
用于沉積介質(zhì)膜（SiO2和SiNx），適用于最大直徑200毫米圓形基片和不規(guī)則形狀的基片，被廣泛應(yīng)用于POWER DEVICE，LED，LD，有機(jī)EL開(kāi)發(fā)、 太陽(yáng)能電池開(kāi)發(fā)，MEMS等產(chǎn)品生產(chǎn)中，片內(nèi)片間均勻性及重復(fù)性優(yōu)于±5%，8inch向下兼容（含碎片）。

設(shè)備型號(hào) ULVAC CC-200Cz
圖片5

鍍膜均勻性1%以內(nèi)：

微信圖片_20200511172356

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