服務熱線
4001027270
蘇州原位芯片科技有限公司為客戶提供高質(zhì)量的微電子工藝流片服務和技術咨詢??商峁┯喼频墓に嚢ǎ汗饪?、反應離子刻蝕、金屬蒸鍍、LPCVD生長氮化硅、氧化硅和劃片等等,為MEMS芯片開發(fā)、MEMS技術研究、納米材料FET研究、光柵研究等領域提供代開發(fā)、代加工服務。
1. 工藝設計:
MEMS結(jié)構(gòu)設計需要綜合考量多種因素,蘇州原位公司的專業(yè)團隊提供MEMS結(jié)構(gòu)和工藝設計服務,可以有效優(yōu)化工藝流程,減少后續(xù)開發(fā)的周期和成本。
2.鍍膜服務:
小片、2寸、4寸和6寸基底蒸發(fā)或濺射:Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt、Ag、Cu、TiW、Pd、Zn、In、SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3、Si3N4和SiO2。(其他材料請直接電話聯(lián)系咨詢)
3.光刻
小片、2寸、4寸和6寸的接觸式曝光或步進曝光,最小線寬500nm。
4.刻蝕
提供干法(NLD、RIE、深硅刻蝕等)和濕法(各向同性和各向異性)刻蝕服務。
5.封裝
包括劃片和鍵合等封裝工藝服務。
憑借5年以上經(jīng)驗的專業(yè)MEMS設計和工藝工程師團隊,蘇州原位芯片可以賦予客戶和合作伙伴MEMS技術的翅膀,快速實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)和學術技術開發(fā)和升級。
網(wǎng)址:www.51mems.com
商家資料
提示:注冊 查看!