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NSR2205EX14光刻機 上海卓晶半導(dǎo)體科技有限公司 設(shè)備商城
主要技術(shù)指標(biāo)
分辨率 |
0.25μm |
Resolution |
0.25μm |
N.A. |
0.6 |
N.A. |
0.6 |
曝光光源 |
248nm |
Exposure light source |
248nm |
倍率 |
1:5 |
Magnification |
1:5 |
最大曝光市場 |
22mmX25.2mm |
Maximum Exposure area |
22mmX25.2mm |
對準(zhǔn)精度 |
50nm |
Alignment accuracy |
50nm |
提供4”、5”、6”、8”、設(shè)備改造。
常年提供所有備件、耗材。
更多型號設(shè)備歡迎致電或瀏覽我們的網(wǎng)站。
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