高低溫系列探針臺 北京美亞先
在真空環(huán)境下,探針臺有兩種應用:
1. 超低溫情況下:
由于晶圓在超低溫情況下進行探測,水氣將會出現(xiàn)并且將會凍結晶圓。水氣將會影響測量,導致測量失敗。真空倉中的水氣將通過真空泵排出,真空泵必須具備長時間測量的要求。
2. 高溫情況下:
當晶圓加熱超過300攝氏度, 400攝氏度, 500攝氏度或者更高溫度時,會發(fā)生很強烈的氧化。溫度越高,越加大硅片表面的氧化,氧化將使晶圓降低電學性,物理性和機械性。真空倉中的氧氣通過真空泵來排出。真空泵必須能夠保持長時間的測量要求。
由于卡盤將被熱量所控制,應用于超低溫和高溫的環(huán)境,在晶圓上探針由于晶圓的收縮和膨脹,將需要一定的改變位置。因此,一些探針將需要通過真空倉之外的探針座的三軸控制旋鈕重新定位。外部的機動探針座可通過拉桿控制系統(tǒng)輕松地重新定位真空倉中的探針。
特點:
三種溫度范圍可選擇:
77K—480K (-196℃—200℃)
77K—780K (-196℃—500℃)
77K—1080K (-196℃—800℃)
所有框架采用焊接以保證堅固的結構
通過外置探針座來控制探針重新定位
橋型結構顯微鏡以方便打開真空倉
顯微鏡可通過鏡臺控制精確地移動,X-Y軸移動范圍 1英寸—1英寸
可升級到6個探針座
雙屏蔽chuck高低溫時達到10pA精度
可選擇防震桌
可選擇高真空倉
詳細說明:
卡盤直徑40mm
溫度的精度為0.1度
液氮瓶50升
探針座X-Y-Z三軸移動范圍:25mmx25mmx25mm,精度10微米
顯微鏡X-Y軸移動范圍:1英寸x1英寸
連續(xù)變焦:0.8X—5X
目鏡:20X
總放大倍數(shù):16X—100X
150W燈源箱
雙分支鵝頸管燈源
規(guī)格:
尺寸:1300mm長x1100mm寬x1500mm高
重量:300Kg
配置:
電源:220V、60Hz、1500W
液氮:50升
氮氣罐
操作說明:
1. 溫度控制單元:
當需要溫度達到室溫以下時,卡盤需要通過液氮來降溫以達到溫度低于事先設置的溫度。比例積分微(PID)分控制器可以準確的控制溫度來加熱卡盤中的熱敏器件。
2. 液氮單元
氮氣是必須必備的,通過氮氣加壓真空瓶來推動液氮的流出,液氮的容量可以通過氮氣的壓強、液氮的進氣閥和出氣閥來控制。
3. 真空倉單元
真空倉可通過真空泵產(chǎn)生10
-3 托的壓強提供給超低溫的應用;
BNC母接頭用來連接探測設備的信號裝置;
真空泵可提供排氣過濾作用,以避免污染客戶的環(huán)境;
4. 探針座單元
所有探針座都在真空倉外設置,這將幫助工程師在真空組織下進行探測時不用排出真空倉內(nèi)的氣體。特別是,當溫度降低的時候,晶圓開始收縮,探針已經(jīng)離開需要探測的測試樣品,工程師需要重新設置探針,將探針扎到測試樣品上。
5. 顯微鏡單元:
顯微鏡可以通過橋梁結構移動到旁邊,以方便打開真空倉的蓋子。顯微鏡可以通過真空倉上面得窗口觀察,
燈光可以通過階梯式旋鈕控制亮度,雙分支鵝頸式光纖引導源可以用于定位及分離目標。