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CNT高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機組、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。
1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;
3、加熱腔體采用進口陶瓷纖維加熱器,均溫區(qū)650mm、對開式結(jié)構(gòu);
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時間工作;
5、氣路系統(tǒng)采用三路質(zhì)量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);
6、真空系統(tǒng)采用分子泵機組;
7、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門子PLC模塊;
8、可選配RF射頻電源模塊;
9、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6
10、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),也可采用手動控制.
11、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計,控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。
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