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多弧離子鍍輔助沉積優(yōu)點:
1、從陰極直接產(chǎn)生等離子體,不用熔池,陰極靶可根據(jù)工件形狀在任意方向布置,使夾具大為簡化。
2、入射粒子能量高,膜的致密度高,強度和耐久性好,附著強度好。
3、離化率高,一般可達60%~80%。
4、從應用的角度講,其突出優(yōu)點是蒸鍍速率快。
我公司研發(fā)的離子復合鍍膜設備具備:
1、先進的離子注入技術;
2、電弧離子鍍技術和工藝;
3、低溫條件下實現(xiàn)膜層與基體的良好結合;購買之前,如有問題,請向我們咨詢