網(wǎng)站首頁

中|EN

當前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導體清洗設(shè)備 » 強酸堿腐蝕清洗 » 半導體材料腐蝕清洗機 »濕法刻蝕設(shè)備—歐萊熙CSE
    •
    包郵 關(guān)注:745

    濕法刻蝕設(shè)備—歐萊熙CSE

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付
    • 商品詳情
    • 商品參數(shù)
    • 評價詳情(0)
    • 裝箱清單
    • 售后保障
    濕法刻蝕設(shè)備—歐萊熙CSE

    設(shè)備名稱

    濕法刻蝕設(shè)備

    設(shè)備形式

    室內(nèi)放置型

    設(shè)備種類

    單片刻蝕、槽式刻蝕

    操作方式

    手動/自動

    每批最大處理量

    50片

    單槽清洗量

    50片/2盒

    被清洗硅片尺寸

    3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸

     

     

    最大產(chǎn)量

    視客戶工藝周期

    時間控制

    1s

    溫度控制

    0.1攝氏度

    轉(zhuǎn)移時間

    酸槽到水槽轉(zhuǎn)移時間小于2秒

    均勻性

    開槽均勻性±5μm

    節(jié)拍

    節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實際工藝時間而定

    用途

    用于硅，二氧化硅，氮化硅，碳化硅等晶圓片或者玻璃片的刻蝕



    咨詢

    購買之前，如有問題，請向我們咨詢

    提問:
     

    應(yīng)用于半導體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品：

    服務(wù)熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

    微信公眾號