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    CSE-單片清洗機(jī)

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    產(chǎn)       地:

    全國(guó)

    數(shù)       量:

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    CSE-單片清洗機(jī)

    設(shè)   

    CSE-單片清洗機(jī)

      

    單片式

      領(lǐng) 

    半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS

       

    2英寸——12英寸

    設(shè)備穩(wěn)定性

    1、≥0.2um顆粒少于10

    2、金屬附著量:<3E10 atoms/ cm²

    3、純水消耗量:1L/min/

    4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%

    5、干燥時(shí)間:≤20S

    6、藥液回收率:>95%

    單片式優(yōu)點(diǎn)

    1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))

    2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)

    3、良品率高

    4、有效避免邊緣再附著

    5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小

     


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