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    德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機DWL66+

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備

    產(chǎn)品品牌

    德國海德堡Heidelberg

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：德國海德堡Heidelberg

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備

     

    德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機DWL66+

    科研用激光直寫系統(tǒng)
    具有多種直寫模塊，實現(xiàn)不同精度直寫需求
    能于結構上進行灰度曝光

    DWL 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器，適用于小批量掩模板制作和直寫需求。該系統(tǒng)的功能和靈活性使其成為Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微結構應用的刻研工具。DWL 66+的客戶群包括全球200多所頂尖大學和研究機構，許多系統(tǒng)功能是與這些機構合作開發(fā)，及先進技術不斷改進以增加高分辦率：DWL 66+的最小結構尺寸為300 nm，提供了極高的分辨率，優(yōu)于或等于研發(fā)領域中最強大的光學光刻系統(tǒng)。

    基本的DWL 66+包含創(chuàng)造和分析微結構所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直寫在任何涂有光刻膠的平坦材料上，多樣化選擇可提高靈活性，使系統(tǒng)適用于更多應用領域。

     

     

     

     
     
     
     
     
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